업무안내

KEIET에서는 실험/공정에 필요한 SiO2,SiNx등의 dielectric material layer 및 금속 배선/필름등의 시편 서비스를 제공합니다. 의뢰후 업무 및 일정미팅을 통해 안정한 시료를 약속드립니다.

Deposition

1. Plasma enhanced Chemical vapor deposition (PECVD)

- SiO2, SiNx deposition

- Pieces ~ 6 inch

- Source power : 2500W, bias power : 500W

- Main feed gases : SiH4, NH4, Ar, He, H2

2. E-beam evaporator

- Metal thin film (Ohmic/gate)

- Pieces ~ 6 inch

- Al, Au, Ni, Pd, Cr, Ag

3. Plasma enhanced Chemical vapor deposition (PECVD)

- Barrier layer

- Source power 1500W

- Main feed gases : NH4, Ar,H2